某建设项目拟建于北京经济技术开发区内。拟建设8英寸(20.32cm)0.35～0.18μm芯片(月投片30000片)，12英寸(30.48cm)先进制程线，0.13～0.09μm芯片(月投产3000片)。本项目建设期2年，是生产期2年，达产期4年，总投资为12.5亿美元。本项目征地面积240030m2。对芯片加工类的特征空气污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物进行监测，芯片生产后加工工序会有VOC产生其处理工艺使用天然气助燃方式解决，会产生SO2、NOx等废气。