某建设项目拟建于北京经济技术开发区内。拟建设8英寸(20.32cm)0.35～0.18μm芯片(月投片30000片)，12英寸(30.48cm)先进制程线，0.13～0.09μm芯片(月投产3000片)。本项目建设期2年，是生产期2年，达产期4年，总投资为12.5亿美元。本项目征地面积240030m2。对芯片加工类的特征空气污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物进行监测，芯片生产后加工工序会有VOC产生其处理工艺使用天然气助燃方式解决，会产生SO2、NOx等废气。

根据《危险废物焚烧污染控制标准》，关于危险废物焚烧厂选址选择要求的说法，错误的是()

机场周围区域受飞机通过(起飞、降落、低空飞越)噪声环境影响的评价量为()。

室内噪声测量时，室内测量点位设在距任一反射面至少0．5m以上、距地面1．2m高度处，在()状态下测量。

某建设项目生态影响评价工作等级为三级，根据《环境影响评价技术导则生态影响》，该项目生态影响评价可不制作的图件是()